Eugen G. Leuze Verlag KG
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Veröffentlichungs-NummerDE102015213529A1
Anmeldedatum17/07/2015 00:00:00
Veröffentlichungs-Datum03/03/2016 00:00:00
IPC-HauptklasseH01L 29/788
ErfinderFlachowsky, Stefan, 01219, Dresden, DE; Mueller, Johannes, 01067, Dresden, DE; Mueller, Stefan, 01744, Dippoldiswalde, DE
Anmelder/InhaberGLOBALFOUNDRIES Inc., Grand Cayman, KY
  
Offenlegungsschrifthttps://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?window=1&space=main&content=treffer&action=pdf&docid=DE102015213529A1
  
Vollständige Beschreibunghttps://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?window=1&space=main&content=treffer&action=textpdf&docid=DE102015213529A1
  
AbstractEine veranschaulichende Vorrichtung, die hierin angegeben wird, umfasst ein Halbleitersubstrat. Das Substrat umfasst ein Sourcegebiet, ein Draingebiet und ein Kanalgebiet. Das Kanalgebiet ist zwischen dem Sourcegebiet und dem Draingebiet angeordnet. Über dem Kanalgebiet befindet sich eine Gateisolierschicht. Über der Gateisolierschicht befindet sich eine Floating-Gate-Elektrode. Über der Floating-Gate-Elektrode befindet sich eine Schicht aus einem ferroelektrischen Material. Über der Schicht aus dem ferroelektrischen Material befindet sich eine obere Elektrode. Eine projizierte Fläche der oberen Elektrode auf eine Ebene, die zu einer Dickenrichtung des Halbleitersubstrats senkrecht ist, ist kleiner als eine projizierte Fläche der Floating-Gate-Elektrode auf die Ebene.

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