Eugen G. Leuze Verlag KG
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Offengelegte Patentanmeldungen Elektronikfertigung

Veröffentlichungs-NummerDE102019119046A1
Anmeldedatum15/07/2019 00:00:00
Veröffentlichungs-Datum16/01/2020 00:00:00
IPC-HauptklasseH01J 37/34
ErfinderHesse, Gregor, 01465, Langebrück, DE; Häberlein, Sven, 01458, Ottendorf-Okrilla, DE
Anmelder/InhaberFHR Anlagenbau GmbH, 01458, Ottendorf-Okrilla, DE
Offenlegungsschrifthttps://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?window=1&space=main&content=treffer&action=pdf&docid=DE102019119046A1
Vollständige Beschreibunghttps://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?window=1&space=main&content=treffer&action=textpdf&docid=DE102019119046A1
Abstract Sputterquelle mit drehbarem Magnetsystem (7), bestehend aus einem zur Aufnahme eines Targets (4) ausgebildeten Grundkörper (1), der in eine Öffnung in der Wandung einer nicht dargestellten Vakuumkammer vakuumdicht und elektrisch isoliert einsetzbar ist und bei dem im Grundkörper (1) über einer ebenen Grundplatte (2) des Grundkörpers (1) ein drehbar gelagerten Magnetsystem (7) vorgesehen ist, wobei der Grundkörper (1) das Magnetsystem (7) topfartig umgibt, und wobei das Target (4) auf der dem Magnetsystem (7) gegenüber liegende Seite der ebenen Grundplatte (2) montiert ist. Es ist Aufgabe der Erfindung, bei einer Sputterquelle mit drehbarem Magnetsystem, die Durchbiegung der ebenen Grundplatte des Grundkörpers der Sputterquelle zu minimieren. Erreicht wird das dadurch, dass der mittlere Bereich der ebenen Grundplatte (2) des Grundkörpers (1) gegen Durchbiegung infolge vorhandener Druckdifferenzen mit einer Abstützung im Grundkörper (1) versehen ist, wobei die Abstützung bevorzugt ...

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