Bei der Award-Verleihung in San José (von links): Will Conley (SPIE Fellow), Winfried Kaiser, Dr. Chris A. Mack (SPIE Board of Directors), Dr. Bruce W. Smith (SPIE Fellow), Dr. Kafai Lai (SPIE Fellow)
Winfried Kaiser, Leiter Produktstrategie der Zeiss Halbleitersparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), ist mit dem renommierten Frits-Zernike-Award for Microlithography 2020 der Internationalen Gesellschaft für Optik und Photonik (SPIE) ausgezeichnet worden. Kaiser nahm den Preis im Rahmen der Fachmesse SPIE Advanced Lithography in San José, Kalifornien entgegen. Der Award gilt als höchste Auszeichnung in der Mikrolithographie.
Kaiser initiierte vor 25 Jahren die Einführung des Entwicklungsprogramms für die Lithographie mit extrem ultraviolettem Licht (EUV) in Europa. Als revolutionäre Fertigungstechnologie ermöglicht EUV-Lithographie mit einer Lichtwellenlänge von 13,5 nm seit 2019 die Serienproduktion von leistungsfähigen Mikrochips mit feinsten Strukturen. Kaiser war zudem eine Schlüsselfigur in der Entwicklung von Lithographie-Technologien wie Deep-Ultraviolett-(DUV) -Systemen, die heute Industriestandard sind – insbesondere die Lithographie mit Lichtwellenlängen von 248 und 193 nm sowie die Immersionslithographie.-dir/vk-
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