Eugen G. Leuze Verlag GmbH & Co. KG
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Mittwoch, 15 Februar 2023 10:59

Implantate für den Gesichtsbereich ermöglichen die chirurgische Korrektur von Deformationen nach Unfällen und Tumor-Entfernung sowie durch altersbedingten Knochenschwund. Derzeit kommen Kunststoff-Implantate zur Anwendung, die nicht auf die Anatomie des Patienten abgestimmt sind und erst während der Operation angepasst werden. Oftmals ungenügende Verankerung am Knochen birgt Risiken von Verschiebungen und damit Entstellungen sowie bakterielle Infektionsrisiken. Entwicklungsziel für temperatursensitive, auch 3D-druckbare Polymere, waren daher antimikrobielle Beschichtungen für optimales Knochenwachstum mittels Atmosphärendruck-Plasmaspritzen von Hydroxylapatit (HAp). Teil 1 eines Zweiteilers.

Rubrik: Medizintechnik
Donnerstag, 15 Dezember 2022 10:59

Physikalisches Plasma, der sogenannte vierte Aggregatzustand der Materie, hält seit einigen Jahren Einzug in die Medizin. Insbesondere bei der Heilung chronischer Wunden sind zunehmend klinische Erfolge zu verzeichnen. Die Wirksamkeit beruht unter anderem auf der Fähigkeit des kalten physikalischen Plasmas, Krankheitserreger effektiv abzutöten und damit die Wundinfektion zu bekämpfen.

Rubrik: Medizintechnik
Mittwoch, 21 September 2022 12:00

Bei der Leiterplattenherstellung konnte lange keine atmosphärische Oberflächenbehandlung durchgeführt werden – es bestand die Gefahr eines Kurzschlusses. Mit einer potentialfreien Plasma-Oberflächenbehandlung, wie sie die Firma Plasmatreat anbietet, können jedoch Leiterplatten ganzflächig oder selektiv aktiviert und gereinigt werden.

Mittwoch, 07 September 2022 12:00

Die Firma Hansgrohe aus Schiltach im Schwarzwald prägt seit weit über 100 Jahren die Ästhetik von Armaturen- und Brausen fürs Badezimmer. Der ehemalige Handwerksbetrieb von 1901 ist mittlerweile zu einem mittelständischen Global Player aufgestiegen und legt mit atemberaubenden Wachstumsraten zu. Eines der Erfolgsgeheimnisse ist das breite Know-how für Oberflächenbeschichtung und die Liebe zum Detail.

Rubrik: Berichte
Dienstag, 13 September 2022 12:00

Thermoplastische Hochleistungskunststoffe wie Polyetheretherketone (PEEK) verfügen über ähnliche mechanische Eigenschaften wie menschliche Knochen. Somit ist PEEK ein vielversprechender Kunststoff für medizinische Anwendungen für Knochenersatz. Um die Bioaktivität von PEEK zu erhöhen, können Hydroxylapatit (HAp)-Schichten mittels Kaltplasmaspritzen auf PEEK-Oberflächen abgeschieden werden. Die abgeschiedenen und haftfesten HAp-Schichten weisen eine poröse Struktur auf, welche für das Anwachsen von Knochenzellen geeignet ist.

Einleitung

Aufgrund des niedrigen Elastizitätsmoduls und seiner Durchlässigkeit für Röntgenstrahlung ist PEEK für die postoperative Visualisierung ein vielversprechendes Biomaterial. Im Vergleich zu metallischen Biomaterialien wie Edelstähle und Titanlegierungen besitzt PEEK ähnliche mechanische Eigenschaften wie menschliche Knochen, damit der Stress-Shielding Effekt am Knochen/Implantat-Interface vermieden werden kann [1]. Allerdings kann seine bioinerte Oberfläche zu fibröser Einkapselung und schlechter Osseointegration führen.

Um die Bioaktivität von PEEK zu erhöhen, sind häufig Modifizierungen der Materialoberflächen notwendig. Torstrick et al. erhöhte die Bioaktivität des PEEK-Materials, indem eine poröse Oberfläche vom PEEK erzeugt wurde [2]. Hahn et al. applizierte eine Hydroxylapatit-Schicht auf Zwischenwirbelimplantat aus PEEK mittels Aerosol Deposition, um eine haftfeste bioaktive Oberfläche zu erzeugen [3]. Des Weiteren ist es möglich, dass eine HAp-Schicht mittels herkömmlichen atmosphärischen Spritzens auf PEEK-Substrat abgeschieden werden kann [4, 5].

Hierbei muss jedoch ein Kompromiss zwischen der Überhitzung des Substrats und der Schichtbildung gefunden werden [6]. Um die thermische Belastung vom Substrat zu minimieren, können die Hydroxylapatit-Schichten mittels atmosphärischen Kaltplasmaspritzens auf thermisch sensitive Substrate aufgebracht werden. Kaltplasmaspritzen ist eine abgewandelte Form des Plasmaspritzens, wobei sehr feine Pulver bei moderater Leistung aufgeschmolzen und auf zu beschichtenden Oberflächen beschleunigt werden.

Material und Methoden

Als Substratmaterialien fanden Plättchen aus PEEK in den Abmessungen Ø 17 mm x 2 mm Verwendung (Rocholl GmbH, Eschelbronn, Deutschland). Die Schmelztemperatur dieses Kunststoffes liegt bei 341 °C. Alle Proben wurden vor der Beschichtung zunächst mit Korund sandgestrahlt, um eine Oberflächenrauheit Sq von 4 µm zu erzielen. Anschließend wurden alle Proben mit Isopropanol im Ultraschallbad für 15 Minuten gereinigt und danach bei Raumtemperatur getrocknet. Als Spritzwerkstoff wurde das Hydroxylapatit (HAp)-Pulver mit der Partikelgröße D50 von 27 µm verwendet (MediCoat AG, Étupes, Frankreich). Die Reinheit der HAp-Phase lag bei > 95 %. Als Spritzzusatzwerkstoff für die Medizinanwendung erfüllt dieses Pulver die Anforderungen der ASTM f1185 und ISO 13779. Ein minimaler Anteil an Calciumoxid (kleiner als 1 %) befindet sich im Pulver.

Die Beschichtung und die davor durchgeführte Aktivierung erfolgten unter Verwendung des Kaltplasmasystems IC-3 (Inocon, Attnang-Puchheim, Österreich). Eine Darstellung des Kaltplasmasystems findet sich in Abbildung 1. Im Gerät erfolgt eine elektrische Entladung zwischen einer zentrisch angeordneten Wolfram-Kathode und der als Anode dienenden Düse. Der einstellbare Leistungsbereich reicht von 1 bis zu 11 kW. Für die hier vorgestellten Untersuchungen wurde eine Leistung von 5,7 kW (250 A, 23 V) verwendet, um eine Beschädigung des PEEK-Substrates zu vermeiden. Während der Beschichtungen wurde die PEEK-Oberfläche mit dem Plasma mäanderförmig abgefahren, wobei das Substrat relativ zur Austrittöffnung der Plasmadüse mittel x-y-Verfahrtisch mit der Geschwindigkeit von 250 mm/s bewegt wurde. Tabelle 1 liefert einen Überblick zu dem verwendeten Parametersatz.

Tab. 1: Zusammenstellung des untersuchten Parametersatzes 

Prozessgas

Argon @ 10 L min-1

Trägergas

Argon @ 7 L min-1

Stromstärke

250 A

Spannung

23 V (automatisch reguliert)

Spritzabstand

44 mm

Relative Bewegung des Substrates

250 mm s-1

Pulverförderrate

3 g min-1

Raster/Versatz

4 mm / 2 mm

Anzahl der Durchläufe

10

Bei der Beschichtung des PEEK-Substrates war eine ausgeprägte Temperatursteigerung zu erwarten. Die Prozesskontrolle in Korrelation zur erreichten Oberflächentemperatur wurde entsprechend mittels Temperaturmessung während des Plasmaspritzens durchgeführt. Die Temperaturmessung während der Aktivierung und der nachgeschalteten Beschichtung wurde mithilfe eines K-Type Thermoelements, welches 1 mm unterhalb der PEEK-Oberfläche in der Bohrung platziert wurde, durchgeführt. Zwischen zwei Durchläufen der Plasmabehandlung wurden Pausenzeiten eingehalten, um eine moderate Oberflächentemperatur zu erzielen.

Die Überprüfung der Verbundfestigkeit der HAp-Schicht wurde mittels Druckscherversuch unter Verwendung der Prüfmaschine von Fa. Hegewald & Peschke (Nossen, Deutschland) durchgeführt. Vor dem Test wurde der sandgestrahlte Stempel (Ø 5 mm) mit Pyrosil beflammt und anschließend mit dem Primer GP15 (Sura Instruments, Jena, Deutschland) beschichtet. Im Anschluss wurden die Stempel und die zu testenden Proben mittels Scotch-Weld DP460 (3M, St. Paul, USA) verklebt und bei 65 °C für 3 Stunden ausgehärtet (fünffach Bestimmung).

Die morphologischen Untersuchungen an den erzeugten HAp-Schichten wurden mit mithilfe der Rasterelektronenmikroskopie durchgeführt. Die Phasenzusammensetzung wurde mittels Röntgendiffraktometrie (XRD) bestimmt.

Ergebnisse und Diskussion

Das primäre Ziel neben der haftfesten Abscheidung der Schichten auf PEEK war die Vermeidung von hohen thermischen Belastungen. Dies konnte durch die Auswahl geeigneter Prozessparameter ermöglicht werden. Während der Aktivierung und der Beschichtung wurde das Temperatur-Zeit-Profil mit einem K-Type-Thermoelement (Ø 0,25 mm, TC Direct, Mönchengladbach, Deutschland) aufgenommen (Abb. 2). In dieser Abbildung wird der Temperaturverlauf 1 mm unterhalb der Oberfläche bei einer Plasmaleistung von 5,7 kW dargestellt. Hierbei sind die rot eingekreisten Bereiche zu beachten, welche die maximale Temperatur des jeweiligen Durchlaufs (DL) hervorheben. Aufgrund der äußerst kurzzeitigen Exposition unterhalb des Plasmajets wurden weder optische noch physikalische Schädigungen des Substrates hervorgerufen. Um die thermische Belastung des Materials auszuwerten, wurden die Maximaltemperaturen betrachtet, die im jeweiligen Durchlauf erreicht wurden. Abbildung 2 zeigt das Temperatur-Zeit-Profil bei der Plasmaleistung von 5,7 kW, dem Spritzabstand von 44 mm und der Substratgeschwindigkeit von 250 mm/s. Nach der Aktivierung wurden Temperaturen bis zu 69 °C erreicht. Zwischen der Aktivierung und 2 Durchläufen wurde Pausenzeiten von 6 Minuten eingehalten. Dabei wurde die Maximaltemperatur nach 10 Durchläufen von bis zu 110 °C erreicht. Die Einsatztemperatur von PEEK ist mit bis zu 260 °C zulässig [7]. Das erreichte Temperaturprofil sollte somit als nicht kritisch angesehen werden.

Abb. 2: Temperatur in Abhängigkeit der Zeit während der Aktivierung (1 DL) und Beschichtung (10 DL); die Maximaltemperaturen des jeweiligen Durchlaufes (DL) werden in roten Kreisen hervorgehobenAbb. 2: Temperatur in Abhängigkeit der Zeit während der Aktivierung (1 DL) und Beschichtung (10 DL); die Maximaltemperaturen des jeweiligen Durchlaufes (DL) werden in roten Kreisen hervorgehoben

Anhand der REM-Untersuchungen der HAp-Pulver lässt sich eine leicht irreguläre Form selbiger erkennen (Abb. 3 links). Aufgrund der relativ niedrigen Plasmaleistung (5,7 kW) konnten die HAp-Pulver nicht vollständig aufgeschmolzen werden. In der Abbildung 3 (rechts) ist zu erkennen, dass der Kern der HAp-Pulver, welche im Plasma aufgeheizt wurden, eine unveränderte Struktur aufwies. Es konnte somit nachgewiesen werden, dass ausschließlich die Oberfläche der HAp-Pulver aufgeschmolzen wird.

Abb. 3: Morphologie des HAp-Pulvers im ursprünglichen Zustand (links) und durch das Plasma (rechts)Abb. 3: Morphologie des HAp-Pulvers im ursprünglichen Zustand (links) und durch das Plasma (rechts)

Die abgeschiedenen HAp-Schichten wiesen eine raue Oberfläche auf, welche das darunterliegende Substrat vollständig bedecken konnte (Abb. 4 links). Mikrorisse befanden sich an den glatten Stellen, an den der Hydroxylapatit aufgeschmolzen wurde. Kristallite auf der Oberfläche deuten auf nicht geschmolzene Bestandteile (Kern der HAp-Partikel) hin. Diese nicht vollständig aufgeschmolzenen Partikel führten zu einer porösen Struktur der HAp-Schicht (Abb. 4 rechts). Die Ergebnisse der Röntgendiffraktometrie bestätigte, dass die Kristallinität der gespritzten HAp-Schicht bei 83 % lag (Ausgangslage HAp-Pulver 95 %). Hydroxylapatit als Hauptbestandteil (JCPDS 9.432) wurde im Spektrum angezeigt (Abb. 5). Es waren keine Peaks von α-TCP, β-TCP oder Tetracalciumphosphat (TTCP) (jeweils JCPDS 9.348, 9.169, und 25.1137) nachweisbar. Minimale Bestandteile von Magnesiumoxid sowie Calciumoxid wurden in den Spektren gefunden, da Magnesium und Calciumoxid als Verunreinigungen im Spritzzusatzwerkstoff vorlagen. (Abb. 4 links).

Abb. 4: Draufsichtaufnahme (links) und Querschliffaufnahme (rechts) der HAp-Schicht auf PEEK (bei 5,7 kW, Spritzabstand von 44 mm, Rastergeschwindigkeit 250 mm/s)Abb. 4: Draufsichtaufnahme (links) und Querschliffaufnahme (rechts) der HAp-Schicht auf PEEK (bei 5,7 kW, Spritzabstand von 44 mm, Rastergeschwindigkeit 250 mm/s)

Abb. 5: XRD Spektren von HAp-Pulver und -SchichtAbb. 5: XRD Spektren von HAp-Pulver und -Schicht

Querschliffaufnahmen (Abb. 4 rechts) zeigten eine gute Bindung am Interface zwischen dem Hydroxylapatit und dem PEEK-Substrat. Die erzielte HAp-Schicht auf PEEK weist insgesamt eine gute Haftung auf. Ihre Scherfestigkeit liegt bei 43,4 MPa. Defekte am PEEK-Substrat selbst konnten nicht beobachtet werden (Löcher, Versprödungen). Somit konnte das Temperatur-Zeit-Profil als valide Methode für das Prozess-Monitoring betrachtet werden.

Fazit und Ausblick

Für Anwendungen im Bereich der Implantat-Technologie ist der Hochleistungskunststoff Polyetheretherketone (PEEK) ein nahezu idealer Werkstoff. Jedoch ist seine bioinerte Oberfläche sein größter Nachteil. Mithilfe von bioaktiven Hydroxylapatit können diese Oberflächen modifiziert werden. Es konnte gezeigt werden, dass das Kaltplasmaspritzen geeignet ist, um haftfeste bioaktive HAp-Schichten auf PEEK-Materialien, die für medizinische Anwendungen relevant sind, ohne optische sowie physikalische Schädigungen abzuscheiden. Aufgrund der geringen und gut einstellbaren Plasmaleistung wurden HAp-Partikel im Plasma nicht vollständig aufgeschmolzen. Dies führte zu einer porösen Schichtstruktur mit sehr hoher Kristallinität, welche die ideale Grundlage für eine hohe Kompatibilität für Knochenzellen darstellt.

In zukünftigen Untersuchungen sollen die Biokompatibilität sowie das zytotoxische Verhalten der HAp-Schichten genauer charakterisiert werden. Zusätzlich sollen weitere Funktionalitäten direkt während des Beschichtungsprozesses hinzugefügt werden. Unter anderem können die abgeschiedenen HAp-Schichten mit Zinkoxid ergänzt werden, welches mittels Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapour Deposition (APPCVD) gleichzeitig in die HAp-Schichten integriert werden kann. Auf diesem Weg sollen Schichten mit optimalen Bedingungen für körpereigenen Zellen geschaffen werden, welche jedoch ungünstige Wachstumsbedingungen für körperfremde Mikroorganismen aufweisen.

 

Danksagung

Ein Teil der hier vorgestellten Arbeiten wurde durch das Bundesministerium für Wirtschaft und Energie (BMWi) unter dem Förderkennzeichen 49MF200039 unterstützt.

Literatur

[1] J.M. Toth et al.: Polyetheretherketone as a biomaterial for spinal applications, Biomaterials Volume 27, Issue 3 (2006) 324–334
[2] F.B. Torstrick et al.: Porous PEEK improves the bone-implant interface compared to plasma-sprayed titanium coating on PEEK, Biomaterials 185 (2018) 106–116
[3] Byung-Dong Hahn et al.: Osteoconductive hydroxyapatite coated PEEK for spinal fusion surgery, Applied Surface Science 283 (2013) 6-11
[4] R.B. Heimann: Thermal spraying of biomaterials, Surf. Coat. Technol., Vol 201, N°5, 2006, 2012–2019
[5] Y.C. Tsui; C. Doyle; T.W. Clyne: Plasma sprayed hydroxyapatite coatings on titanium substrates, Part 1: Mechanical properties and residual stress levels, Biomat., Vol 19, 1998, 2015–2029
[6] P. Robotti et al.: Thermal Plasma Spray Deposition of Titanium and Hydroxyapatite on PEEK Implants, PEEK Biomaterials Handbook, 2019
[7] S. Beauvais et al.: Plasma Sprayed Biocompatible Coatings on PEEK Implants, Thermal Spray 2007: Global Coating Solutions

Dienstag, 31 Mai 2022 12:00

Plasma-Quenching für die Bildung von Nanopartikeln nutzt in Sputterprozessen eine zyklische Erhöhung des herrschenden Drucks in der Vakuumkammer. Im Falle von Kohlenstoff (C) konnte dabei unter Nutzung einer Industrie-typischen Magnetron-Sputteranlage und Kathodenzerstäuben (Sputtern) eine signifikante Reduktion der Reibzahlen auf verschiedenen Substraten erreicht werden. Während Teil 1 Vorüberlegungen sowie einen Teil der Experimente präsentierte, ergänzt der zweite Teil die experi- mentelle Umsetzung und fokussiert sich anschließend auf die daraus folgenden Ergebnisse. Im letzten Teil im kommenden Heft geht es dann im Wesentlichen um die Diskussion und das Fazit aus den Experimenten.

Freitag, 28 Januar 2022 10:59

Die traditionsreiche Veranstaltung V2021 zur Plasma- und Vakuumtechnik für die Oberflächenveredlung hat vom 12. – 14. Oktober 2021 im Internationalen Congress Center Dresden mit 370 Teilnehmern stattgefunden. Veranstaltet von der Europäischen Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V. (EFDS) spielten Energie, Bio und Medizin, Optik sowie Werkszeuge und Bauteile in Workshops eine Rolle.

Dienstag, 14 September 2021 15:10

Im Zeitalter von Industrie 4.0 steigen die Anforderungen an die Prozesssicherheit und -reproduzierbarkeit stetig. Die Plasmatreat GmbH, Unternehmen für atmosphärische Plasmatechnologie aus Steinhagen, Deutschland, unterstützt mit ihrer Plasma Control Unit (PCU) die digitalisierte Fertigung und stellt eine Vielzahl von Steuerungs-, Regelungs- und Überwachungsfunktionen zur Verfügung, um eine gleichbleibend hohe Qualität und Reproduzierbarkeit der Oberflächenbehandlung und eine 100%ige Prozesskontrolle sicherzustellen.

Mittwoch, 30 Juni 2021 16:19

Der kalifornische Hersteller Nordson Electronics Solutions, weltweit agierender Entwickler von Plasma-Prozesstechnologie, stellt sein neues MARCH MegaVIA Plasmasystem mit 15-Zellen-Konfiguration für PCB-Panels bis zu 30 x 52 Zoll vor. Mit Abmessungen von insgesamt 1652 mm W x 178 2mm D x 2326 mm H bietet das neue MegaVIA System eine um 54 Prozent bessere Ladefähigkeit für die Panels. Dabei ist der Footprint des Systems nur 2 Prozent größer als beim MARCH MaxVIA-Plus. Die neue Plattform ermöglicht hohe Reproduziergenauigkeit und Uniformität bei der Bearbeitung der großen Panels.

Rubrik: NEWS PLUS
Donnerstag, 10 Juni 2021 11:59

Eine zentrale Fragestellung bei der Konzeptionierung eines neuen Produkts ist die Wahl geeigneter Materialien. Jede Materialgruppe hat hierbei spezielle Eigenschaften, die für Funktion und Design einzelner Baugruppen entscheidend sind. Die Herausforderungen, die bei der Herstellung und Verarbeitung dieser verschiedenen Werkstoffe auftreten, sind so vielseitig wie die Materialien selbst. Vor allem im Bereich der Adhäsion bedarf es zuweilen einiger Erfahrung gepaart mit einer wissenschaftlichen Herangehensweise, um bei Prozessen wie Kleben, Bedrucken, Lackieren, Beschichten, Umspritzen oder Vergießen die notwendige Qualität zu erreichen.

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