• Titelbild: Im Fokus steht die Entwicklung eines strahlungssensitiven Lacks (Resist) für die Elektronenstrahl-Lithografie, der nanoskalige Strukturen mit hoher Auflösung bei gleichzeitig kürzeren Belichtungszeiten abbilden kann (Bild: Fraunhofer)
  • Ausgabe: Juni
  • Jahr: 2025
  • Autoren: Thomas Joos
  • Titelbild: Cicor-Sitz in Bronschofen - Bild: Cicor
  • Ausgabe: Juni
  • Jahr: 2025
  • Autoren: Markolf Hoffmann
  • Titelbild: Ingenieur bei der Installation eines Solarwechselrichters (Bild: Adobestock)
  • Ausgabe: Juni
  • Jahr: 2025
  • Autoren: Robert Piterek
  • Titelbild: MPS-Plattform von imec (Bild: imec)
  • Ausgabe: Juni
  • Jahr: 2025
  • Autoren: Markolf Hoffmann
  • Titelbild: Neckar bei Bad Wimpfen - hier leitet die Firma Solvay mit behördlicher Genehmigung jeden Tag 24 kg TFA in den Fluss ein - (Bild: Richard Gould/CC BY-SA 2.0)
  • Ausgabe: Juni
  • Jahr: 2025
  • Autoren: Kristina Altvater
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