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Dokumente

Keimbildung und Keimwachstum bei der Metallabscheidung

Die galvanische Abscheidung von Metallen erfolgt normalerweise nicht flächig homogen, also Atomlage für Atomlage, wie es meist auch technisch erwünscht wäre, sondern lokal an einzelnen Zentren. Für eine Beschreibung müssen also geeignete Modelle für Keimbildung und Keimwachstum verwendet werden. In einem früheren Beitrag zur Oxidbildung wurden Teilaspekte bereits diskutiert, die hier erweitert werden sollen. Ein Keim ist hier ein ...
Jahr2010
HeftNr4
Dateigröße197 KByte
Seiten730-734

The Use of Atomic Force Microscopy (AFM) in the Study of Electrochemical Phenomena

This work presents the study of electrochemical phenomena that occur at the lead/sulphuric acid electrode interface. Atomic force microscopy (AFM) was used in this study. This was combined with electrochemical polarisation allowing the in-situ observation of the electrochemical corrosion reactions of metals in aggressive environments. The study observed, in AFM images, the oxidation/ reduction reactions of the lead electrode, starting with ...
Jahr2010
HeftNr4
Dateigröße1,638 KByte
Seiten718-729

Zahlen

Vor kurzem wurden wir mal wieder mit einer tragischen Meldung aufgeschreckt: Unser Vater Rhein, der wohl beeindruckendste deutsche Strom, von der deutschen Dichtung reichlich bedacht, ist ein ganzes Stück kürzer als bisher verkündet. An Stelle der 1320 misst er von der Quelle bis zur Mündung nur 1230 Kilometer.

Jahr2010
HeftNr4
Dateigröße55 KByte
Seiten717

Galvano-Referate 04/2010

Fachzeitschriften aus aller Welt... für Sie gesichtet!

Jahr2010
HeftNr4
Dateigröße124 KByte
Seiten41-48

Zur Info 05/2010 - Umwelttechnik

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße718 KByte
Seiten1184-1190

Standard für Bestimmung des CO2-Ausstoßes

Das in den USA ansässige Konsortium von Industriebetrieben der Elektronikindustrie iNEMI (International Electronics Manufacturing Initiative) hat am 1. März eine Stellungnahme zum CO2-Footprint veröffentlicht...

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße94 KByte
Seiten1182

Umicore Galvanotechnik: Ganzheitliches Managementsystem verknüpft Qualität, Umwelt und Arbeitssicherheit

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße76 KByte
Seiten1181

Chromexposition und Galvanikbetriebe

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße304 KByte
Seiten1167-1180

Norm – EU-Norm – enorm!

Wie freut sich der Ingenieur, wenn die unterschiedlichen Teile eines Systems normgerecht zueinander passen! Wie jubelt der Informatiker, wenn die verschiedenen Teile des Rechnersystems miteinander korrespondieren!

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße40 KByte
Seiten1165

Potenziale für Hightech-Textilien

TITV-Konferenz in Greiz

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße150 KByte
Seiten1163-1164

Cluster MST: 2. Landshuter Symposium für Mikrosystemtechnik

Unternehmen miteinander zu vernetzen und mit anwendungsorientierten Forschungseinrichtungen ins Gespräch zu bringen – dem hat sich das Cluster Mikrosystemtechnik (MST) verschrieben. Mit diesem Ziel hat das unabhängige Kompetenznetzwerk am 24./25. Februar 2010 zum 2. Symposium für Mikrosystemtechnik eingeladen: Zwei Tage lang bildete die Hochschule Landshut das Zentrum der Mikrosystemtechnik.

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße506 KByte
Seiten1156-1162

Mikro – einmal ganz anders

Vor kurzem hat uns der besondere Mikrostaub sehr beschäftigt, den der isländische Vulkan mit dem unaussprechlichen Namen Eyjafjallajökull tonnenweise ausgespuckt hat und heute noch ausspuckt, wenn auch nicht mehr so stark. Was die Gemu?ter so erhitzt hat, ist die Rigorosität, mit der die Luftaufsicht und insbesondere der deutsche Verkehrsminister auf die Staubwolke reagiert haben.

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße44 KByte
Seiten1155

Zur Info 05/2010 - Dünnschicht- und Plasmatechnik

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße144 KByte
Seiten1150-1154

Atmosphärendruckplasma trifft Medizin – Chancen und Perspektiven

Sonder-Workshop des Anwenderkreises Atmosphärendruckplasma am 2. März in Erfurt – Erstes nationales interdisziplinäres Treffen von Naturwissenschaftlern, Technikern und Medizinern zu Anwendungsmöglichkeiten von physikalischem Plasma für die Wundbehandlung

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße269 KByte
Seiten1147-1149

Ultra thin Combustion Chemical Vapor Deposition Layers as Adhesion Primer Coatings on Advanced Wire Products

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße242 KByte
Seiten1144-1146

Das Werkzeug Licht feiert Geburtstag

So wie in grauer Vorzeit der Gebrauch des Feuers die Weiterentwicklung der Menschheit entscheidend beeinflusst hat, profitiert unsere heutige Industriegesellschaft zunehmend von der gezielten Nutzung des Lichts. Physiker waren Jahrhunderte lang bemüht, seine Geheimnisse zu enträtseln, um beispielsweise den Dualismus des Lichts, der dieses je nach Experiment als Welle oder Partikel erscheinen lässt, zu verstehen...

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße48 KByte
Seiten1143

Zur Info 05/2010 - Photovoltaik

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße61 KByte
Seiten1140-1142

Flexible Solarzellen aus Siliziumdrähten

Forscher am California Institute of Technology (Caltech) in Pasadena, Kalifornien, haben eine neuartige Solarzelle entwickelt, in der sie einen Wald aus vielen senkrecht stehenden Siliziumdrähten benutzen. Die Drähte sind zwischen 30 und 100 Mikrometer lang und haben einen Durchmesser von nur einem Mikrometer.

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße118 KByte
Seiten1138

Die Stromnetze der Zukunft werden intelligent

Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße39 KByte
Seiten1137

Transparente Elektroden für organische Solarzellen auf Basis dünner Silberschichten

                                                                                 
Jahr2010
HeftNr5
Dateigröße284 KByte
Seiten1132-1136

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