Strategischer Zusammenschluss zur Weiterentwicklung von 3D-Lithografieanlagen

MPO ist Wegbereiter der Zwei-Photonen-Lithografie und hat für den 3D-Druck bis tief in den Submikrometerbereich ein leistungsfähiges Belichtungssystem entwickelt. Damit schließt MPO eine Lücke zwischen der konventionellen Laserlithografie, auf der das Stammgeschäft der Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH beruht, und der vor drei Jahren hinzugekommenen Technologie zur Nanostrukturierung (t-SPL) im Unternehmensbereich Heidelberg Instruments Nano. Zusammen mit MPO soll die Stellung im Bereich Mikrooptik und strukturierte Oberflächen ausgebaut werden. Das aktuelle Spezialgebiet der MPO ist die Fertigung von beliebig gestalteten 3D-Freiformflächen und 3D-Strukturen, wobei der Fokus auf Mikrooptiken liegt. Bei der Forschung und Entwicklung liegt das Augenmerk derzeit vor allem auf Fertigungsprozessen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) sowie applikationsspezifischen Software- und Hardwaremodulen.