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Donnerstag, 13 Januar 2022 08:00

Filterlösungen für Hochtechnologieprozesse

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Geschätzte Lesezeit: 1 Minute
Um die geeigneten Filtersubstanzen zu finden, nutzen die Forschenden des Fraunhofer IWS eine Multi-Adsorptionsanlage, womit das Adsorptionsverhalten gleichzeitig konkurrierender Gase untersucht wird (© Jürgen) Um die geeigneten Filtersubstanzen zu finden, nutzen die Forschenden des Fraunhofer IWS eine Multi-Adsorptionsanlage, womit das Adsorptionsverhalten gleichzeitig konkurrierender Gase untersucht wird (© Jürgen)

Durch die Metallbearbeitung mit Laser und Plasma gelangen verschiedene Schadstoffe wie z.B. VOCs, Formaldehyd, Stickoxide, Schwefelverbindungen oder Mikropartikel in die Umgebungsluft. Um die Mitarbeiter vor diesen effektiver als bisher zu schützen, wurde im Rahmen des Förderprojektes MultiFUN zusammen mit Unternehmen aus Sachsen eine Filteranlage entwickelt, die effektiv eine Vielzahl von Schadstoffen gleichzeitig bindet.

Das flexible Filtersystem besteht aus mehreren, einzeln austauschbaren Modulen. Jede Filterebene enthält ein bestimmtes Filtermedium, das spezifisch bestimmte Substanzen aus der Raumluft entfernt. Eine Besonderheit im Vergleich zu herkömmlichen Filteranlagen ist die Messsensorik, die automatisch erkennt, wann das Filtermedium mit Substanzen gesättigt ist und ausgetauscht werden muss. Der Zustand wird optisch über farbige LEDs für jede Filterebene und Schadstoffklasse separat angezeigt. Entsprechend muss auch nur die jeweils betreffende Filterebene ausgetauscht werden.

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