Insbesondere für Arbeitsprozesse in der Halbleitertechnologie ist interessant, dass die als Mini-Environments ausgelegte Nass-Trocken-Werkbank direkt am Arbeitsplatz höchste Sauberkeit bietet und bei Notwendigkeit der höchsten Reinheitsstufen (Reinraumklasse ISO 3) einsetzbar ist.
Zudem ermöglicht ihr Luftmanagement die Reduzierung des Energiebedarfs bis zu 50 %. Das erreicht eine vom Sonderanlagenhersteller selbst entwickelte Lüftung, die in allen metallfreien Anlagen von MK Versuchsanlagen verwendet wird.
Besonders interessant ist, dass auch bei kritischen Raumlüftungen eine Nachrüstung in bestehende Reinräume durch ein spezielles Lüftungskonzept einfach möglich ist. So kann auch in diesen Fällen der energiesparende Effekt realisiert werden. Die metallfreien Werkbänke bieten zudem auch höchsten Korrosions- und Produktschutz.
Einfache Integration in bestehende Systeme
In die Nass-Trocken-Werkbank integriert werden kann ein Quick Dump Rinse (QDR)-Becken zur Reinigung von Halbleiterplatten. Das QDR-Becken ist modular aufgebaut und gliedert sich in Prozessbecken und Auffangbecken. Im Prozessbecken erfolgt die Reinigung der Halbleiterplatten oder des Wafercarriers.
Die Reinigung erfolgt über ein Sprühsystem, welches das Becken mit hochreinem Wasser befüllt und somit der Ätzprozess an den Halbleiterplatten stoppt. Die so von den Halbleiterplatten beseitigten Verunreinigungen werden durch den Sog hinausgeschwemmt, der beim Öffnen des Ventils entsteht.
So wie die gesamte Hardware ist auch die Software eine Eigenentwicklung des Sonderanlagenherstellers. Vorteil ist laut MK Versuchsanlagen, dass eine Einbindung in bestehende, übergeordnete digitale Systeme einfach realisiert werden kann. Die direkte GLT-Integration ist ebenso möglich wie die Anbindung an LIMS oder MES Systeme durch eine OPC UA Schnittstelle (Industrie 4.0). Damit ist es möglich, eine optimale Umgebung zu schaffen, die alle Prozesse und Prozessgeräte in die Minienvironments integriert.
Technische Daten zum QDR-Becken:
- Material: Polypropylen (PP)
- Fassungsvolumen: 22,5 Liter
- Überlaufwehr: 360°
- Anzahl Sprühdüsen: 8
- Füllzeit: ca. 120 Sekunden
- Ablasszeit: ca. 10 Sekunden
- Größe Wafercarrier: bis zu 8“
- Spülmedium: DI-Wasser
- QDR-Ablassventil:
2,5 bis 5,6 Kg/cm2
Die Nass-Trocken-Werkbank ist mit Arbeitskammer mit Drucküberwachung für Prozesssicherheit, einer SPS-Steuerung, automatisiertem Frontschieber mit individueller Einstellung, VSR-Anschlüssen für Zu- und Abluft, Zuluftfilter (Klasse H14) und Beleuchtung (auch Gelblicht) ausgestattet. Standard sind zudem die Elemente Lichtgitter und Temperaturüberwachung für Arbeitskammer und Abluft. Die Zustandssignalisierung erfolgt durch LED und Summer. Als weitere Ausstattungsoptionen der Nass-Trocken-Werkbank stehen zur Verfügung:Integrierte Durchreiche zur Nachbarwerkbank
- Anschlüsse für Thermische Aufschluss Einheit (TAE)
- Medienversorgung auf Kundenwunsch (individuelle Prüfung)
- Bedienteile für Medien (Hand, Fuß, Display)
- Ultraschallbecken
- Abluftwäscher und Abluftberieselung
- Unterflurspülung
- Trennwand
- Anschlussmöglichkeiten Temperaturüberwachung
- Fernwartung auf Kundenwunsch
- Ionisator
- Quick Dump Rinse-Becken
- Prozessbecken
- Spülbecken
- Spin Coater
Der 1988 gegründete Sonderanlagenhersteller MK Versuchsanlagen und Laborbedarf e. K. entwickelt und baut metallfreie Reinraumanlagen und Reinräume. Außerdem gehören kosteneffizient und automatisiert einsetzbare Handschuhprüfgeräte zum Portfolio. Das Unternehmen ist nach ISO 9001:2015 zertifiziert. Die Produkte werden von weltweit führenden Pharmaunternehmen und Laboren mit höchsten Qualitätsansprüchen eingesetzt.