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Atmosphärendruck C-CVD Beschichtungs-verfahren – Trends und Entwicklungen

Artikelnummer: GALVANO-5925
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Atmosphärendruck C-CVD Beschichtungs-ver
Neben zahlreichen herkömmlichen Vakuumbeschichtungsverfahren, wie zum Beispiel der Festkörperzerstäubung (Sputtern) und dem thermischen Aufdampfen, gibt es immer wieder Bestrebungen in Industrie und Forschung, Schichten mit vergleich­baren Eigenschaften durch Atmosphärendruckverfahren herzustellen. Der Vorteil hierbei liegt auf der Hand: Es kann auf die aufwändigen und teuren Vakuumanlagen verzichtet werden, die gerade bei großformatigen Produkten eine immense Kosten­belastung darstellen. Eine seit längerem bekannte Möglichkeit für solche Schichtbildungen ist die C-CVD-Methode (Combustion-Chemical Vapour Deposition), also die Ab- scheidung von Reaktions­produkten einer in einer Brenngasflamme zersetzten chemischen Substanz. In diesem Bereich fand eine Entwicklung statt, die ausgehend von reinen haftvermittelnden Beschichtungen im Dentalsektor, also auf kleinen Substratgrößen, mittlerweile bis hin zu funktionellen Schichten im Quadratmetermaßstab reicht. Im vorliegenden Beitrag werden einige Entwicklungen dazu aufgezeigt und diskutiert.
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