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Auflösungs- und Abscheidungsverhalten von Kupfer in Sulfatelektrolyten mit organischen Badzusätzen

Artikelnummer: GALVANO-24013
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Auflösungs- und Abscheidungsverhalten vo
Mitteilung aus dem Institut für Metallurgie-Metallhüttenkunde der Technischen Universität Berlin und der Firma Schempp und Decker, Industriegalvanik, Berlin
1 Einleitung
Aufgrund der hohen Ansprüche, die an die Reinheit des Kathodenkupfers gestellt werden, ist es notwendig, bei der Elektrolyse Kathodenniederschläge mit möglichst glatten Oberflächen zu erzielen. Unebenheiten führen zu Elektrolyteinschlüssen und damit zur Verunreinigung des abgeschiedenen Kupfers. Die heute in den konventionellen Kupferelektrolysen angewendeten hohen Strom- dichten sowie die geringen Kathoden-Anoden-Abstände erfordern die Zugabe von organischen Zusätzen zum Elektrolyten, um die Entstehung von Knospen und Dendriten zu verhindern. Von den in kleinen Mengen zugesetzten organischen Substanzen wird eine einebnende Wirkung verlangt.
 
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