Eigenschaften und Potenziale nanobeschichteter Druckschablonen zur Optimierung des Schablonendruckprozesses

Der Schablonendruckprozess von Lotpaste nimmt aufgrund seiner Fehleranfälligkeit in der Elektronikproduktion eine zentrale Stellung in der Fertigung elektronischer Baugruppen ein. Zur Reduzierung typischer Druckfehler wie Brückenbildung, zu geringer Pastenvolumina oder fehlender Pastendepots ist eine fortwährende Optimierung dieses Prozessschrittes notwendig. Einen wesentlichen Beitrag zur Prozessoptimierung können nanobeschichtete Druckschablonen liefern, da sich durch ihren Einsatz die Qualität und Produktivität dieses wichtigen und komplexen Prozessschrittes nachhaltig steigern lassen. Im Rahmen dieses Beitrages werden die Eigenschaften und Potenziale nanobeschichteter Druckschablonen vorgestellt. Dies beinhaltet den Beschichtungsprozess und das Beschichtungsmaterial ebenso wie die Eigenschaften der Beschichtung und das daraus resultierende Potenzial für den Druckprozess.