1 Einleitung
Viele Untersuchungen während der letzten Jahrzehnte haben gezeigt, daß Strahlen schneller Ionen ein sehr wirksames Werkzeug zur Oberflächenbehandlung für Anwendungen in den verschiedensten Gebieten darstellen. Insbesondere für elektronische Anwendungen wie z.B. die Dotierung von Halbleitern oder die Verminderung von Ladungsträger-Lebensdauern in der Leistungselektronik ist die Ionenimplantation heute unabdingbar; die moderne Mikroelektronik ist ohne die Ionenimplantation, die wesentliche Prozeßschritte bildet, undenkbar. Während sich in diesen Feldern die Ionenimplantation als Schlüsseltechnologie etabliert hat, ist ihre Querschnittsfunktion zur Einstellung und Verbesserung von optischen, mechanischen und chemischen Oberflächeneigenschaften bisher wenig wirtschaftlich genutzt worden. Dieses Potential ist kürzlich in einer Untersuchung beschrieben worden, die vom BMBF in Auftrag gegeben worden war [1].