Selektive Hochgeschwindigkeitsabscheidung von Edelmetallen in Bandanlagen - Teil 3

-Fortsetzung aus Galvanotechnik 12/2003-
4. Grundlagen der Hochgeschwindigkeitsabscheidung
Um die hohen Durchlaufgeschwindigkeiten bei neueren Bandanlagen von durchschnittlich 10 m/min zu erzielen, wird von den eingesetzten Elektrolyten die höchst mögliche Abscheidungsgeschwindigkeit gefordert. Gleichzeitig liegen die in einem engen Rahmen spezifizierten Schichteigenschaften (technologische Eigenschaften) auf einem hohen Niveau. Um dies zu realisieren, werden spezielle Hochleistungselektrolyte eingesetzt, deren Abscheidungsgeschwindigkeit unter bestimmten Voraussetzungen ein mehrfaches der herkömmlichen Elektrolyte betragen kann. Die unterschiedlichen Abscheidungsbedingungen können unter dem Oberbegriff Hochgeschwindigkeitsabscheidung zusammenge- fasst werden. Nachfolgende Einführung in die Grundlagen der Hochgeschwindigkeitsabscheidung soll dazu dienen, das Zusammenspiel der Hochleistungselektrolyte mit den Hochgeschwindigkeitsmodulen in den folgenden Abschnitten verstehen zu können.
-wird fortgesetzt-