El Presidente Federal Frank-Walter Steinmeier anunció los ganadores del Deutscher Zukunftspreis 2020 en una ceremonia celebrada bajo restricciones pandémicas en el Verti Music Hall de Berlín el 25 de noviembre de 2020. Homenajeó a expertos de ZEISS, TRUMPF Lasersystems y el Instituto Fraunhofer de Óptica Aplicada e Ingeniería de Precisión IOF con su premio a la tecnología y la innovación por su proyecto "Litografía EUV - Nueva luz para la era digital".
El equipo ganador ha realizado una importante contribución al desarrollo y la industrialización de la tecnología EUV. El resultado es una tecnología de futuro asegurada por más de 2.000 patentes que constituye la base de la digitalización de nuestra vida cotidiana y permitirá aplicaciones como la conducción autónoma, el 5G, la inteligencia artificial y otras innovaciones futuras.
El proceso de fabricación de las últimas generaciones de chips se basa en el uso de luz EUV. Permitirá chips más potentes, más eficientes energéticamente y más rentables. EUV son las siglas de "extreme ultraviolet", es decir, luz con una longitud de onda extremadamente corta. Desde la fuente de luz hasta el sistema óptico en el vacío, pasando por el revestimiento de la superficie de los espejos utilizados, prácticamente toda la tecnología de exposición ha tenido que desarrollarse desde cero.
Con el láser industrial pulsado más potente del mundo, TRUMPF suministra un componente clave para la exposición de microchips de última generación. La calidad y la forma del sistema de iluminación y la resolución de la óptica de proyección de ZEISS determinan lo pequeñas que pueden ser las estructuras de los microchips. Los espejos utilizados en el sistema óptico son una innovación clave. Dado que incluso las irregularidades más pequeñas provocan errores de imagen, se desarrolló el espejo más "preciso" del mundo para la litografía EUV. Fraunhofer actuó como un importante socio de investigación en la sofisticada tecnología de recubrimiento de los espejos de gran superficie.
