Mit dem Projekt ‚IndiNaPoly‘ will das Fraunhofer-Institut für Betriebsfestigkeit und Systemzuverlässigkeit LBF zusammen mit dem Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS der Halbleiterindustrie den Weg zu kompakteren und leistungsfähigeren Bauteilen ebnen. Entwickelt wird eine individuell anpassbare Polymerplattform, die sich für die Großserienfertigung hochauflösender Mikrostrukturen eignet.
Im Fokus steht ein neuartiger strahlungssensitiver Lack für die Elektronenstrahl-Lithografie, der nanoskalige Strukturen schneller und präziser abbilden kann. Das Fraunhofer LBF optimiert dafür die molekulare Struktur und setzt auf nachhaltige Synthesewege. Parallel integriert das Fraunhofer ENAS die entwickelten Resiste in reale Fertigungsprozesse und prüft deren Eignung für Zukunftsanwendungen wie KI-Chips, Quanten- und Sensortechnik. Die Kombination aus hochauflösender Abbildung und kürzeren Belichtungszeiten senkt nicht nur den Energiebedarf, sondern steigert auch die Prozessstabilität.
‚IndiNaPoly‘ wird im Rahmen des PREPARE-Programms über drei Jahre hinweg gefördert. Hersteller von Spezialpolymeren, Fotolacken und Halbleiterkomponenten sollen direkt von den Ergebnissen profitieren.
