Twitter
FacebookFachbücher und Fachzeitschriften
Application Potential of Thin Silicon Oxide Films Prepared by Plasma Assisted CVD at Atmospheric Pressure
Artikelnummer: GALVANO-2624
Downloadbares Produkt
Application Potential of Thin Silicon Ox
2,50 €
Netto-Preis: 2,34 €
Enthaltene MwSt.: 0,16 €
Beschreibung
The use of atmospheric plasma sources for the surface activation is well known for several years and state of the art in many industry sectors. Especially in the plastics processing industry plasma sources based on the dielectric barrier discharge are widely-used.
Shopsuche
NEU: Der Leuze Fachbuch-Finder: Dieser kleine Assistent lässt Sie in wenigen Sekunden das richtige Fachbuch finden. Probieren Sie´s aus! -> Fachbuchfinder
Weitere detaillierte Informationen zu unseren Büchern finden Sie in unserem aktuellen Verlagsprogramm 2023, welches Sie hier kostenlos als PDF herunterladen können (ca. 12 MB)
