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Radikale Vereinfachung des Elektronik-Designs
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Direct and Remote Plasma Assisted CVD at Atmospheric Pressure for the Preparation of Oxide Thin Films
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Lieferkette aufrechterhalten – gilt auch für Leiterplatten
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Die Nernstsche Gleichung – ihre Anwendung und Anwendbarkeit
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Omniphobe Beschichtungen auf medizinisch relevanten Oberflächen (Teil 2)
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Application Potential of Thin Silicon Oxide Films Prepared by Plasma Assisted CVD at Atmospheric Pressure
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