Artikelarchiv -Galvanotechnik

Bericht über die Sitzung des DGO-Arbeitskreises am 23. November 2011 in Zwingenberg

Bericht von der V2011 in Dresden

Benseler feiert 50-jähriges Bestehen

Sanitärhersteller Keuco feierte die Einweihung der neuen Handgalvanik am Hauptsitz in Hemer

Dass ein Computer zunehmend wie unser Gehirn rechnen und entscheiden kann, ist eine Tatsache. Die Fähigkeit des Computers, Gedanken und Gefühle zu erkennen und reagieren zu können, ist derzeit nicht sehr hoch, aber die Situation wird sich vermutlich ändern. S. Jaunani, Student der Fachrichtung Design am Indian Institute of Technology Delhi, hat nun eine App entwickelt, mit der die Gefühle des Anwenders festgestellt werden können...

Ein Beitrag der AHC Oberflächentechnik, Kerpen, zur Beständigkeit von speziellen Kombinationsschichten

Der Jahreswechsel mit den langen Winterabenden ist immer die Zeit, in der sich die Menschen darüber Gedanken machen, was im neuen Jahr zu erwarten ist. Selbstverständlich gibt es neben den vielen positiven Dingen auch einige die uns Sorgen bereiten. Hier zunächst einige erfreuliche Dinge.

Mit LiquiSonic bietet die Firma SensoTech ein Messsystem, das in Flüssigkeiten jeglicher Art die Konzentrationen misst

Beitrag aus dem Hause Roentgenanalytik, Taunusstein

In der galvanischen Oberflächenbehandlung ist eine genaue Analyse der verwendeten Reinigungs- und Elektrolytlösungen wesentlich für die Qualität der Oberflächenveredelung.

ElektroPhysik nutzt das Faradaysche Gesetz zur Messung sehr dünner galvanischer Schichten ab einer Stärke von 0,05 Mikrometer. Das hierfür auf dem Markt erhältliche universelle Schichtdickenmessgerät GalvanoTest besteht im Wesentlichen aus einer Messzelle, einem Stativ mit Elektrolytförderpumpe zur Aufnahme des Messgegenstandes und einem mikroprozessorgesteuerten Auswertegerät. Galvanische

Um die Korrelation zwischen Laborprüfungsresultaten und den Auswirkungen realer Umweltbelastungen weiter zu verbessern, werden laufend neue Prüfverfahren entwickelt.

Steigende Anforderungen an die Teilesauberkeit und zunehmender Kostendruck erfordern neue Lösungen für die Prozessführung industrieller Reinigungsprozesse. Anwendungsspezifische Prozessmesstechnik für das kontinuierliche Überwachen der Prozessgrößen und der Teilesauberkeit sind Grundlage für hohe Prozesssicherheit und Wirtschaftlichkeit.

Zeitnahe Prozessüberwachung durch neue Methode als zusätzliches Kontrollinstrument zur Qualitätssicherung

Der Phosphorgehalt chemisch abgeschiedener Nickelschichten ist eine technologisch wichtige Größe, deren messtechnische Erfassung jedoch problematisch ist. Die in der Galvanotechnik weit verbreitete Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) zur Schichtdickenmessung und Schichtanalyse konnte bisher nur indirekt über eine Auswertung des Signals des Grundwerkstoffs Phosphor messen. Man war damit auf Systeme mit einem Substrat aus nur einem schweren Element beschränkt. Dazu war eine Mindestschichtdicke nötig. Mit den jetzt verfügbaren hochauflösenden Silizium-Driftdetektoren (SDD) lässt sich das P-KFluoreszenzsignal direkt messen, so dass Nickel/Phosphor-Schichten auf beliebigen Grundwerkstoffen analysiert werden können.

Moderne Fertigungstechniken, wie sie heute eigentlich für jedes erdenkliche Produkt verwendet werden, sind ohne eine mehr oder minder hohe Zahl an Messund Prüfvorgängen undenkbar.

Nickel-phosphorus and nickel-phosphorus-SiC coatings were obtained by electroless deposition processes using laboratory made and commercial nickel/ hypophosphite based baths. The characterization techniques included scanning electron microscopy (SEM), glow discharge optical emission spectroscopy (GD-OES) and X-ray diffraction (XRD). All deposits showed an amorphous micro-structure and high phosphorus content. The incorporated SiC particles constituted about 10 wt.% of the composite deposits. The techniques used to study the corrosion resistance in 3.5 wt.% NaCl were linear polarization resistance (LPR), Tafel plots and electrochemical impedance spectroscopy (EIS). The results showed that nickel-phosphorus-SiC deposits experienced lower corrosion currents compared with the nickel-phosphorus coatings. This fact can be ascribed to the decrease in the effective surface area available for corrosion. Concerning the mechanism by which nickel-phosphorus and nickel-phosphorus- SiC deposits become corroded, through EIS experiments and Tafel plots, it was shown that the corrosion kinetics involved a charge transfer mechanism.

Will man aus Veröffentlichungen in Fachzeitschriften auf die Beweggründe schließen, die den allgemeinen Fortschritt in der Industrie antreiben, so deutet sich im Berichtszeitraum 2010/2011 eine Art Paradigmenwechsel an. Es ist nicht mehr das Streben nach maximalem Gewinn bei minimalem Kapitaleinsatz, das an vorderster Stelle aller Maßnahmen steht.

Die wirtschaftlichen Prognosen waren zum Ende des Jahres in wöchentlichem Rhythmus nach unten korrigiert worden. Da kommt die Meldung aus der Automobilbranche zum Jahresauftakt gerade recht:...