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Dokumente
USB Type C Development Kit
Jahr | 2019 |
HeftNr | 4 |
Dateigröße | 1,208 KByte |
Seiten | 542-543 |
LIDE – präzise Glasbearbeitung unterstützt Mikrosystemtechnik
Das Laser Induced Deep Etching (LIDE) für Dünnglas erlaubt der Mikrosystemtechnik, das ganze Potenzial von Glas noch besser zu nutzen. Einsatzbeispiele reichen von Through Glass Vias über Glass Embedding bis hin zu Glass Capping-Lösungen mit nahezu senkrechten Wänden. Das Garbsener Unternehmen LPKF berichtete darüber während des 3D Systems Summit 2019 in Dresden.
Jahr | 2019 |
HeftNr | 4 |
Dateigröße | 2,200 KByte |
Seiten | 544-548 |
FED-Informationen 04/2019
Aufbau- und Verbindungstechnologie bei Leiterplatten mit großen Leistungsquerschnitten
Basis aller Leiterplatten: Die Kupferfolie
Typische Angaben für Kupferfolien und minimale Werte
Worst-case-Betrachtung
Die nächsten FED-Kurse und -Termine
Termine Regionalgruppen
Veranstaltungstermine
Neue Mitglieder
FED-Newsletter
Jahr | 2019 |
HeftNr | 4 |
Dateigröße | 3,863 KByte |
Seiten | 549-552 |
Auf den Punkt gebracht 04/2019
Jahr | 2019 |
HeftNr | 4 |
Dateigröße | 2,618 KByte |
Seiten | 553-556 |
EIPC-Informationen 04/2019
Rückblick EIPC Winterkonferenz Mailand 2019 // Review EIPC Winter Conference Milan 2019
Jahr | 2019 |
HeftNr | 4 |
Dateigröße | 4,539 KByte |
Seiten | 557-561 |