Das Solar Energy Research Institute in Singapore (SERIS) hat seine Anlagen für „Atomic Layer Deposition“ (ALD) auf das neuere Verfahren „Spatial Atomic Layer Deposition“ (SALD) aufgerüstet, teilt SERIS gemeinsam mit der niederländischen SALD BV mit.
Das Upgrade auf das neue SALD-Verfahren bringt erhebliche Vorteile. In der Solarwirtschaft z. B. lassen sich mit SALD-Beschichtungen für die neue Generation der Perowskit-Silicium-Tandemsolarzellen Wirkungsgrade bei der Leistungsumwandlung erreichen, die weit über der theoretischen Grenze von reinem Silicium liegen. Genau auf diesem Gebiet plant SERIS auch den Einsatz der neuen SALD-Anlage. Dank des Verfahrens können neue Solarzellenmaterialien, wie Zinnoxide und transparente leitfähige Oxide sowie Passivierungs- und Tunnelrekombinationsschichten zur Anwendung kommen. Auch Lizenzen für die SERIS-Technologien soll es geben.
Foto: SALD
