Eugen G. Leuze Verlag KG
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Dokumente

Neue Entwicklungen im Qualitätsmanagement

1 Normenübersicht
 Die Erstausgabe der Normenreihe ISO 9000 zu Qualitätsmanagementsystemen erfolgte 1987. Die ISO 9000-Normen gelangten weltweit rasch zu großer Akzeptanz und Anwendung. Inzwischen sind in vielen Branchen - unter anderem auch in der Elektronik - Unternehmen, die die Normenreihe ISO 9000 nicht anwenden, nicht mehr wettbewerbsfähig. Inzwischen werden neue Forderungen an das Qualitätsmanagement bzw. an die ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße1,000 KByte
Seiten1333-1337

ED Resist-SBU (Photovias)

Herausforderung und Umsetzung bei einem mittelständischen LP-Hersteller 1 Einleitung Der Druck des Marktes auf die Elektronikindustrie, ihre Pro- dukte in Bezug auf Baugrößen, Rechnerleistung, Qualität und Preis zu verbessern, nimmt unvermindert zu. Diese treibenden Faktoren führen zu immer extremeren Bauteilen mit mehr Funktionalität auf kleinstem Raum. Die Leiterplatte als Träger und Verbinder der elektronischen ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße1,119 KByte
Seiten1326-1332

Vorbehandlung mit KMn04 bei der Metallisierung von Leiterplattenbohrungen – Teil 2

Das Verfahren zur Reinigung von Leiterplattenbohrungen mit einer Alkalipermanganatlösung ist seit 1982 eingeführt, wurde aber wegen der beträchtlichen Behandlungsdauer(30 min) in Fachkreisen zunächst reserviert aufgenommen [1]. Später wurde festgestellt, daß sich die Alkalipermanganatlösung als Reinigungsmittel der Lochwandungen nach einer Vorbehandlung in Schwefelsäure, Chromsäure oder nach einer Plasmaätzung als sehr wirksam ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße1,446 KByte
Seiten1319-1325

Wird er nun stark oder schwach?

Kommt der Euro oder kommt er nicht, wird er nun „stark” oder „schwach”? Seit Maastricht beschäftigen diese Fragen die öffentliche Meinung und in den Medien wurde dieser Dauerbrenner umso mehr gepflegt als er sich doch ausgezeichnet für spekulative Prognosen in pro- oder auch contra-Richtung eignete, je nach Ausrichtung des Autors. Jetzt haben sich die Nebelschleier etwas gelüftet. Die von der EU-Kommission vorgeschlagenen ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße218 KByte
Seiten1307

Anlagen/Verfahren 04/1998

Die Diskussion über die Energie-Besteuerung nimmt mit zunehmendem Finanzmangel des Staates kein Ende. Die Alternative sind die sog. erneuerbaren Energien, zu denen neben der noch äußerst teuren Solar- die Windenergie, die Müllverbrennung sowie die Wasserkraft zählen. Die Energieerzeugung kostengünstiger Kernkraft soll nach dem Willen der Grünen dem Ausland überlassen werden. Deutschland, ein Land voller wirtschaftlicher Spannungen und ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße1,171 KByte
Seiten1302-1306

Deutscher Wettbewerb und die erneuerbaren Energien

Die Diskussion über die Energie-Besteuerung nimmt mit zunehmendem Finanzmangel des Staates kein Ende. Die Alternative sind die sog. erneuerbaren Energien, zu denen neben der noch äußerst teuren Solar- die Windenergie, die Müllverbrennung sowie die Wasserkraft zählen. Die Energieerzeugung kostengünstiger Kernkraft soll nach dem Willen der Grünen dem Ausland überlassen werden. Deutschland, ein Land voller wirtschaftlicher Spannungen und ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße323 KByte
Seiten1300-1301

Die „etwas andere“ Abwassertechnik

Bericht über die Firma W&W Umweittechnik GmbH in Siegen Die W&W Umwelttechnik GmbH hat ein neues Verfahren zur industriellen Abwasserbehandlung entwickelt, welches durch Innovative Technik dem Anwender die Kontrolle und Wartung zum überwiegenden Anteil abnimmt. Das System wurde bereits in einigen Galvanobetrieben installiert. Die Redaktion von Galvanotechnik wurde eingeladen, um die Branche über das Verfahren zu ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße473 KByte
Seiten1298-1299

Kosten der Abwasserentsorgung: Durchschnittliche Jahresgesamtkosten pro Einwohnernichtgestiegen

Zusammenfassender Bericht der ATV Die durchschnittlichen Gesamtausgaben der Deutschen für die Abwasserentsorgung im Jahr 1996 betrugen 215 DM pro Einwohner und Jahr und sind damit gegenüber dem Vorjahr (224 DM pro Einwohner und Jahr) nicht gestiegen (Tab. 1, 2). Diesen positiven Trend gab der Präsident der in Hennef bei Bonn an- sässigen A7V (Abwassertechnische Vereinigung e. V.), Prof. Hermann H. Hahn, am 23. September 1997 in ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße858 KByte
Seiten1292-1297

Abwasserfreie Produktion in der Oberflächenbehandlung mit Vakuumdestillationsanlagen


Mitteilung der Fa. VacuTec, D-87751 Heimertingen Die Forderung nach abwasserfreier Produktion kann mit Hilfe von Vakuumdestillationsanlagen wirtschaftlich erfüllt werden. Geringer Energieverbrauch, hohe Endkonzentration und gute Destillatqualität zur Wiederverwendung im Behandlungsprozeß prädestinieren dieses Verfahren zum Erreichen geschlossener Stoffkreisläufe. Die Komplexität der Problematik von abwasserfreier Produktion wird ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße857 KByte
Seiten1288-1291

Deutliche Erfolge im Gewässerschutz

Seit Verabschiedung des Wasserhaushaltsgesetzes (WHG) in den 50er Jahren wurde systematisch an der Verbesserung der Qualität unserer Gewässer gearbeitet. Nachdem die Wirtschaft und die Industrialisierung steil nach oben führten und mit zunehmender lokaler Dichte des produzierenden Gewerbes und der Industrie, aber auch des veränderten Konsums der privaten Haushalte auch der Abwasserstrom anschwoll, war das Eingreifen zum Schutz der ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße1,172 KByte
Seiten1283-1287

Moderne Abwassertechnologie


Bericht über die Firma Decker Verfahrenstechnik GmbH in Berg/Opf. Zieht man die Leitgedanken der Kreislaufschließung für die Oberflächenbearbeitung von Metallen unter Anwendung von wäßrigen Lösungen heran, so sind diejenigen Verfahren optimal, die eine Trennung von Metall und Wasser unter Zurückführung der getrennten Stoffe in den Kreislauf ermöglichen. Erfüllt werden diese Vorstellung u.a. von Ionenaustauschern, die ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße725 KByte
Seiten1279-1282

Dr. Lange AOX-Küvettentest

Einleitung
Durch die vielfältige Verwendung halogenhaltiger Verbindungen in Industrie, Haushalt und Gewerbe gelangen halogenorganische Verbindungen (AOX) entweder direkt über das Abwasser in die Umwelt, oder werden durch chemische Reaktionen organischer Substanzen mit aktivem Chlor gebildet. Halogenorganische Verbindungen weisen oft eine beachtliche Resistenz gegenüber mikro- bakteriologischen Abbauversuchen auf. Aus diesem ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße1,257 KByte
Seiten1272-1278

Elektrochemische Oxidation von cyanidhaltigen Abwässern

Zusammenfassung
 Es wurde die elektrochemische Oxidation von Cyaniden untersucht, die in Industrieabwässern aus Galvanisierungsbetrieben für Zinkbeschichtungen enthalten sind. Die elektro- chemische Oxidation erfolgte auf Graphit- Elektroden und auf Titanlegierungselektroden mit folgender Zusammensetzung: Ti -94,5 %, AI- 4 %, Mn -1,5 %. Es wurde der Einfluß des pH-Wertes des Mediums, der Stromdichte und der ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße968 KByte
Seiten1265-1271

Vaterland
und Landesväter

Während man den Begriff des Landesvaters für populäre Politiker gelegentlich noch antrifft, läuft man bei Benutzung der Vokabel Vaterland leicht Gefahr, als Neofaschist in der äußersten politisch rechten Ecke gebrandmarkt zu werden. Die offenbar nie sorgfältig aufgearbeiteten Relikte aus der nationalsozialistischen Ära haben zu einer historischen Entwurzelung der Deutschen geführt. Nationalstolz gilt allenfalls noch beim Fußball als ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße165 KByte
Seiten1251

Zur Info - Dünnschicht- und Plasmatechnik 04/1998

Die Faltblätter werden vom VDI-Technologiezentrum in Düsseldorf mehrmals jährlich herausgegeben. Sie informieren über vom BMBF geförderte Projekte sowie technische Neuentwicklungen, unter anderem auch auf dem Gebiet der Dünnschicht- und Plasmatechnik. Sie können beim VDI-Technologiezentrum kostenlos angefordert werden.

 

Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße781 KByte
Seiten1248-1250

Neue Infos PhysTech vom VDI-Technologiezentrum

Die Faltblätter werden vom VDI-Technologiezentrum in Düsseldorf mehrmals jährlich herausgegeben. Sie informieren über vom BMBF geförderte Projekte sowie technische Neuentwicklungen, unter anderem auch auf dem Gebiet der Dünnschicht- und Plasmatechnik. Sie können beim VDI-Technologiezentrum kostenlos angefordert werden.

 

Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße482 KByte
Seiten1246-1247

Förderinitiativen des BMBF für Unternehmen

Futour - Zukunft innovativ gestalten Futour- Förderung und Unterstützung von technologieorientierten Unternehmensgründungen in den neuen Bundesländern und Berlin (Ost) - ist eine Förderinitiative das Bundesministerium für Bildung, Wissenschaft, Forschung und Technologie (BMBF). Gefördert werden können Unternehmensgründungen auf der Grundlage innovativer Produkte, Verfahren oder technischer Dienstleistungen in der ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße259 KByte
Seiten1245

FDS -
Festveranstaltung und Hauptversammlung 1997

Bericht über eine Veranstaltung der Fördergemeinschaft Dünne Schichten e. V. Am 3. Dezember 1997 fand am Dresdener Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik die Festveranstaltung zum fünfjährigen Bestehen der Fördergemeinschaft Dünne Schichten e.V. (PDS) statt. In diesem Zusammenhang war ebenfalls zur Jahreshauptversammlung der Fördergemeinschaft eingeladen worden. In der Kombination aus Fest- und Arbeitsprogramm ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße713 KByte
Seiten1242-1244

Tribologie im Umbruch

Um den verschärften Auflagen nach Energie- und Werkstoffeinsparung und nach Schutz von Mensch und Umwelt zu begegnen, sind auch in der Tribologie zum Teil völlig neue und aufeinander abgestimmte Konzepte erforderlich. Allein durch die Verbesserung einzelner Komponenten tribologischer Systeme wird keine zufriedenstellende Lösung mehr erreicht werden können. Die zunehmende Zahl nationaler und EU-Regelungen und -Novellierungen bei ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße286 KByte
Seiten1241

Deutsch-asiatische Kooperation fördern – die 1.AEPSE ’97


Bericht über eine internationale Konferenz in Seoul/Korea Vom 5. bis 9. September 1997 fand die 1. Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering unter dem Vor- sitz von Prof. Dr. K. H. Chung, Seoul, und Prof. Dr. G. K. Wolf, Heidelberg, in Seoul, Korea, statt. Organisiert wurde die Veranstaltung von der Korean Accelerator Plasma Research Association (KAPRA), dem Korean Institute of Surface Engineering {KISE) ...
Jahr1998
HeftNr4
Dateigröße1,241 KByte
Seiten1236-1240

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