- Titelbild: Im Fokus steht die Entwicklung eines strahlungssensitiven Lacks (Resist) für die Elektronenstrahl-Lithografie, der nanoskalige Strukturen mit hoher Auflösung bei gleichzeitig kürzeren Belichtungszeiten abbilden kann (Bild: Fraunhofer)
- Ausgabe: Juni
- Jahr: 2025
- Autoren: Thomas Joos
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