Frage: Wir haben seit Wochen Probleme bei der Einstellung unseres sauren Kupferelektrolyten. Nach dem Neuansatz zeigt sich Knospenbildung im hohen Stromdichtebereich. Dies lässt sich in der Hull-Zelle reproduzieren, weshalb wir einen Einfluss der Anoden ausschließen. Die Bleche werden 10 Minuten bei 2 A gefahren. Die Knospen treten bis circa 5 mm von links nach innen auf.

Sie ist nicht auf Anhieb sichtbar, sondern schleicht sich ein und jeder Produktionsverantworliche ist froh, wenn sie sich nicht einstellt: Die Rede ist von unerwünschter Oxidation, bzw. Rost. Mit einer Kombination aus richtiger Anlagentechnologie und einem von der Borer Chemie AG aus dem schweizerischen Zuchwil entwickelten Passivierungsverfahren können Produkte im Herstellungsprozess effektiv geschützt werden.

Die Galvanotechnik ist eine Querschnittstechnologie mit großer Bedeutung für zahlreiche Industrien, die aber auch mit besonderen Risiken einhergeht. Industrieversicherungsmakler Funk mit Hauptsitz in Hamburg setzt in Kooperation mit Hardware- und Softwarespezialisten die intelligente Sensorlösung e.Guard auf Basis der Differenzstromanalyse ein. Diese kann Anomalien und Degradationen im Anlagenbetrieb frühzeitig erkennen – und hilft so, Schäden zu vermeiden, bevor sie entstehen.

Für eine Transplantation vorgesehene Lebern werden derzeit gekühlt zwischen Kliniken transportiert. Dabei und vor allem bei der anschließenden Erwärmung kann das Organ irreversibel geschädigt werden. Eine Alternative ist die maschinelle Perfusion bei Körpertemperatur, bei der auch eine Sauerstoffversorgung erfolgt.Das Institut für Rettungsingenieurwesen und Gefahrenabwehr der TH Köln hat mit Partnern aus Wirtschaft und Forschung ein Konzeptgerät für ein neuartiges, kompaktes Transportsystem entwickelt, das auf dieser Technologie basiert.

Das finnische Unternehmen Beneq und das Laser Zentrum Hannover e.V. (LZH) haben gemeinsam eine Spatial ALD-Anlage entwickelt, mit der sich komplex geformte 3D-Objekte wie Optiken in bisher unerreichter Geschwindigkeit im Produktionsmaßstab beschichten lassen. Die ALD-Anlage C2R erreicht Geschwindigkeiten von bis zu 200 U/min mit Auftragsraten von bis zu 1 µm/Stunde. Sie ermöglicht eine exakte Kontrolle der Schichtdicke z. B. bei stark gekrümmten, kleinen asphärischen Linsen. Die ALD-Technologie (engl. atomic layer deposition, ALD) ist ein selbstbegrenzender und isotroper Prozess, der pro Zyklus eine Schichtdicke von etwa 1 Angström erreichen und damit extrem maßgenaue Schichten oder Nano-Multilayers erzeugen kann.